自动刻蚀机供应商询问报价

等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新，北方华创微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、***封装、功率半导体等领域可提供***装备及工艺解决方案。形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力，其中应用于集成电路领域的硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂，其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的。

光刻技术，重头戏是物理技术，光刻的前道工序如涂胶，后道如显影，都是化学技术，对机器要求不算高。唯独***工序才是难的，其中难又在于光刻机，也就是一只巨型单反相机，其光源和镜头，还有控制技术估计已经是人类的极限了，巨难做。刻蚀说得形象点就是沿着***图形刻槽，化学成分比较大，并不算十分关键的设备，我朝的刻蚀机技术还是很不错的。

目的：除去工件表面的防锈油、润滑油、乳化液及工作人员分泌的汗渍油脂等。

成份组成：、碳酸钠等碱性物质及十二***磺酸钠等。

脱脂不完全会影响后面涂布工序中保护膜与工件的接合力，以致在蚀刻过程中保护膜脱落造成工件的损坏。

涂布感光油墨。

可以采用满版印刷、刷涂、滚涂或喷涂的方式，对油墨涂层的均一性要求不是很高，只要能保证涂层能够在蚀刻时对产品需保护部位得到充分的保护。