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从光刻机还是蚀刻机，至少可以看得出来国产芯片已经取得了非常大的成就。

中微半导体7nm蚀刻机的量产，直接迈入世界行列，5nm蚀刻机也在实验阶段。而光刻机方面已迈入22纳米。

我们也相信如果光刻机与蚀刻机纷纷取得进展，也将成为如果挑战台积电、三星、英特尔背后大霸主的有力筹码。至少“科技自立”下，实现芯片研发国产化、加工制造本土化。那个时候，将会造福诸如华为、小米、OV等国产手机。

无论是高精密 蚀刻机 還是片式蚀刻机，還是辊子蚀刻机，稳压泵输出功率一定要大，才可以处理蚀刻速度更快，表面整平的难题。另外还一定要保证蚀刻机总体系统软件不可以要走电现像，在蚀刻段如果有走电的现像，一是给作业者产生不安全的要素，还有一个就是说在半蚀刻表面会出現凸凹不平，等于电解法效用会另外开展，非常是是间越长，主要表现的现像会更显著，有较强的不锈钢抛光感。这类现像小编在304不锈钢板模板中发觉此难题。

　刻蚀机和光刻机的区别：光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。刻蚀相对光刻要容易。如果把在硅晶体上的施工比成木匠活的话，光刻机的作用相当于木匠在木料上用墨斗划线，刻蚀机的作用相当于木匠在木料上用锯子、凿子、斧子、刨子等施工。蚀刻机和光刻机性质一样，但精度要求是天壤之别。木匠做细活，一般到毫米就行。做芯片用的刻蚀机和光刻机，要到纳米。现在的手机芯片，如海思麒麟970，高通骁龙845都是台积电的10纳米技术。10纳米有多小呢？打个比方。如果把一根直径是0.05毫米头发丝，按轴向平均剖成5000片，每片的厚度大约就是10纳米。现在***的光刻机是荷兰的A***L公司，到10纳米。台积电买的都是它的光刻机。A***L公司实际上是美国、荷兰、德国等多个***技术合作的结果。因为这方面的研究难度太大，单个***完成不了。除了A***L，世界上只有我们还在光刻机上努力研发。

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金属蚀刻机作业原理及用途

金属蚀刻机可加工化学蚀刻或CNC机械雕刻机不方便或难以加工的金属工件，资料可所以钛金属、钛合金或其他任何高硬度该耐酸性金属。金属蚀刻机的加工制造工艺在一般的制造类广告公司中常常能够看到。

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